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Effects of ozone oxidation on interfacial and dielectric properties of thin HfO2 films 臭氧氧化对HfO2薄膜界面和介电性能的影响
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:L. Wang; Paul K. Chu; André Anders; N.W. Cheung 出版日期:2008-09-01 |
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