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 Ultraviolet Cross-Link Gap Fill Materials and Planarization Applications for Patterning Metal Trenches in 32–45 nm Via First Dual Damascene Process 相关领域
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Satoshi Takei; Tetsuya Shinjo; Yusuke Horiguchi 出版日期：2007-07-01 |
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