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标题
P‐16: Stacked PECVD SiO2 Gate Insulators for Top‐Gate Metal Oxide Thin‐Film Transistors in Enhancement Operation Mode
网址
https://doi.org/10.1002/sdtp.13165
DOI
10.1002/sdtp.13165 doi
其它 期刊：SID Symposium Digest of Technical Papers
作者：Sunbin Deng; Rongsheng Chen; Guijun Li; Meng Zhang; Fion Sze Yan Yeung; et al
出版日期：2019
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霜幕 在 2026-01-28 19:51:45 发布自湖北，悬赏 10 积分
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