Advances of dry resist towards next-generation lines-spaces patterning in high-NA EUV lithography

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标题	[高分] Advances of dry resist towards next-generation lines-spaces patterning in high-NA EUV lithography
网址	https://doi.org/10.1117/12.3072069
DOI	10.1117/12.3072069 doi
其它	期刊：International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2025 作者：Ali Haider; Zhengtao Chen; Shruti Jambaldinni; Anuja De Silva; Rich Wise; et al 出版日期：2025
求助人	停车线在 2026-06-13 20:37:41 发布自湖北，悬赏 50 积分
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