| 标题 |
 Low-thermal surface preparation, HCl etch and Si/SiGe selective epitaxy on (1 1 0) silicon surfaces 相关领域
化学
硅
光电子学
热的
外延
硅锗
材料科学
纳米技术
图层（电子）
物理
气象学
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期刊：Semiconductor Science and Technology 作者：V Destefanis; J M Hartmann; M Hopstaken; V Delaye; D Bensahel 出版日期：2008-09-17 |
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