On the balance between silylene and silyl radicals in rf glow discharges in silane: The effect on deposition rates of a-Si:H

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标题	On the balance between silylene and silyl radicals in rf glow discharges in silane: The effect on deposition rates of a-Si:H
网址	http://dx.doi.org/10.1063/1.339411
DOI	10.1063/1.339411 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Mark J. Kushner 出版日期：1987-10-01
求助人	TAboo 在 2026-07-13 20:46:50 发布自湖北，悬赏 10 积分
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