Influence of the microwave plasma CVD reactor parameters on substrate thermal management for growing large area diamond coatings inside a 915MHz and moderately low power unit

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标题	Influence of the microwave plasma CVD reactor parameters on substrate thermal management for growing large area diamond coatings inside a 915MHz and moderately low power unit
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S092596351...
DOI	10.1016/j.diamond.2012.10.001 doi
其它	期刊：Diamond and Related Materials 作者：Awadesh K. Mallik; Kalyan S. Pal; Nandadulal Dandapat; Bichitra K. Guha; Someswar Datta; et al 出版日期：2012-10-17
求助人	痕迹在 2026-09-09 10:15:41 发布自河南，悬赏 10 积分
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