A study on film thickness control of vertical flow showerhead reactor for RF plasma deposition

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标题	A study on film thickness control of vertical flow showerhead reactor for RF plasma deposition
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/7958418/7966529/07966580...
DOI	10.23919/mipro.2017.7966580 doi
其它	期刊：International Convention on Information and Communication Technology, Electronics and Microelectronics 作者：Guensuk Lee; Suhong Kim; Seunghyun Seok; Jun-Sung Lee; Jin-Seok Lee; et al 出版日期：2017-05-01
求助人	冷酷的亦寒在 2026-09-19 19:48:19 发布自广东，悬赏 10 积分
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