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标题
Al2O3/in situ GaON gate dielectrics incorporated GaN MIS-HEMTs with stable VTH and significantly reduced interface state density
Al2O3/原位GaON栅极电介质结合GaN MIS-HEMT，具有稳定的VTH和显著降低的界面态密度
相关领域
光电子学 材料科学 原位 宽禁带半导体 电介质 接口（物质） 降级（电信） 电子工程 化学 复合材料 有机化学 毛细管数 毛细管作用 工程类
网址
https://doi.org/10.1063/5.0232364
DOI
10.1063/5.0232364 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Tian Luo; Sitong Chen; Ji Li; Fang Ye; Zhehan Yu; et al
出版日期：2025-02-10
求助人
NMSL 在 2025-05-17 14:58:47 发布自福建，悬赏 10 积分
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