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标题
Challenges and opportunities of KrF photoresist development for 3D NAND application
三维NAND应用中KrF光刻胶开发的挑战与机遇
相关领域
光刻胶 材料科学 平版印刷术 与非门 透射率 光电子学 分层（地质） 图层（电子） 光刻 纳米技术 计算机科学 逻辑门 生物 构造学 俯冲 古生物学 算法
网址
https://doi.org/10.1117/12.2552140
DOI
10.1117/12.2552140 doi
其它 作者：Yang Song; Mingqi Li; Jong Hyeok Park; X. -L. Hou; Yusuke Matsuda; et al
出版日期：2020-03-23
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楼下太吵了 在 2025-07-21 09:39:12 发布自天津，悬赏 20 积分
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