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标题
Exploration of underlap induced high-k spacer with gate stack on strain channel cylindrical nanowire FET for enriched performance
应变沟道圆柱形纳米线场效应晶体管上栅极叠层下诱导高k间隔层增强性能的探索
相关领域
跨导 纳米线 光电子学 材料科学 应变工程 电子迁移率 异质结 量子隧道 堆栈（抽象数据类型） 纳米技术 晶体管 硅 电气工程 电压 计算机科学 程序设计语言 工程类
网址
https://www.nature.com/articles/s41598-024-53487-1.pdf
AI链接 nature.com nature.com nih.gov nih.govdoi.org
DOI
10.1038/s41598-024-53487-1 doi
其它 期刊：Scientific Reports
作者：Rasmita Barik; Rudra Sankar Dhar; Mousa Hussein
出版日期：2024-02-05
求助人
Owen 在 2025-08-04 12:31:20 发布，悬赏 10 积分
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