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标题
Analysis of III-V material-based dual source T-channel junction-less TFET with metal implant for improved DC and RF performance
基于III-V材料的金属注入双源T沟道无结TFET提高直流和射频性能的分析
相关领域
对偶（语法数字） 材料科学 光电子学 金属 频道（广播） 植入 电气工程 工程类 艺术 医学 冶金 文学类 外科
网址
https://doi.org/10.1016/j.micrna.2023.207629
DOI
10.1016/j.micrna.2023.207629 doi
其它 期刊：Micro and Nanostructures
作者：Aadil Anam; S. Intekhab Amin; Dinesh Prasad; Naveen Kumar; Sunny Anand
出版日期：2023-06-11
求助人
strive 在 2025-08-25 16:10:48 发布，悬赏 10 积分
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