| 标题 |
 Effect of etch-clean delay time on post-etch residue removal for front-end-of-line applications 相关领域
湿法清洗
材料科学
接触角
化学
溶解
化学机械平面化
过氧化氢
残留物（化学）
化学工程
图层（电子）
纳米技术
复合材料
有机化学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Ingrid Vos; David Hellin; Guy Vereecke; Elizabeth G. Pavel; Werner Boullart; et al 出版日期：2009-09-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
小青椒
Zx_1993
无极微光
哆啦的空间站
Criminology34
不配.
嗯呢嗯呢
Rubby
zcl
子车茗
Li
DijiaXu
LaTeXer
馆长
GingerF
eric888
star
fan
研友_Z7mYwL
iNk
pcr163
风清扬
拉长的傲旋
Dean
大碗
Zoom
聪慧的正豪
皖公网安备34019202002308
