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 Effect of feature size, pitch, and resist sensitivity on side-lobe and ring formation for via hole patterning in attenuated phase-shift masks 特征尺寸、间距和抗蚀剂灵敏度对衰减相移掩模中通孔图案化旁瓣和环形成的影响
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Navab Singh; Moitreyee Mukherjee-Roy 出版日期：2002-07-15 |
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