| 标题 |
Nitrogen Doping Strategy in SiO2 Insulators for Stable and Hydrogen-Resistant ALD–IGZO TFTs |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Tae Heon Kim; Dong-Gyu Kim; Sang-Hyun Kim; Taekyung Kim; Kie Moon Song; et al 出版日期:2025-03-20 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人或该文件上传人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)