Roughness-generation mechanism of Ru etching using Cl2/O2-based plasma for advanced interconnect

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标题	Roughness-generation mechanism of Ru etching using Cl2/O2-based plasma for advanced interconnect
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003736
DOI	10.1116/6.0003736 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B 作者：Miyako Matsui; Yohei Ishii; Lucas Kovatch; Kathryn Maier; Masaya Imai; et al 出版日期：2024
求助人	楼下太吵了在 2026-04-16 16:10:33 发布自天津，悬赏 10 积分
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