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Characterization of SOG (spin on glass) fully etch back process for multilevel interconnection technology 相关领域
化学机械平面化
蚀刻(微加工)
材料科学
选择性
反应离子刻蚀
互连
干法蚀刻
氧化物
光电子学
纳米技术
化学
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冶金
生物化学
催化作用
计算机网络
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期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Yu‐Jie Huang; Marx Huang; Sen-Fu Chen; C. H. Yu; L. M. Liu; et al 出版日期:1995-09-15 |
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