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Electrochemical behavior and polishing properties of silicon wafer in alkaline slurry with abrasive CeO2
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DOI
10.1016/S1003-6326(08)60032-1 doi
其它 期刊:Transactions of Nonferrous Metals Society of China
作者:Xiao-lan SONG; Da-yu XU; Xiao-wei ZHANG; Xun-da SHI; Nan JIANG; Guan-zhou QIU
出版日期:2008
求助人
li 在 2026-05-08 13:12:57 发布自浙江,悬赏 10 积分
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