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 Scalable growth of atomically thin MoS2 layers in a conventional MOCVD system using molybdenum dichloride dioxide as the molybdenum source 以二氯化钼为钼源的常规MOCVD系统中原子级薄MoS2层的可扩展生长
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期刊：Applied Surface Science 作者：Xu Yang; Shisheng Li; Naoki Ikeda; Akihiro Ohtake; Yoshiki Sakuma 出版日期：2023-06-15 |
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