Optimizing Chemical Vapor Deposition Reactor Design and Thickness Uniformity for Ultra-Thick Epitaxy Technology

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标题	Optimizing Chemical Vapor Deposition Reactor Design and Thickness Uniformity for Ultra-Thick Epitaxy Technology 优化超厚外延技术的化学气相沉积反应器设计和厚度均匀性相关领域化学气相沉积外延材料科学沉积（地质）光电子学反应堆设计燃烧化学气相沉积化学工程纳米技术薄膜核工程碳膜图层（电子）地质学工程类古生物学沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2024.113925
DOI	10.1016/j.vacuum.2024.113925 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Chenguang Sun; Wenjie Shen; Huayi Cai; Han Zhang; Lingfeng Zhu; et al 出版日期：2024-12-01
求助人	flystone 在 2025-09-12 13:14:41 发布自浙江，悬赏 10 积分
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