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[高分]
 A Design of Plasma Emission Intensity Ratio Control System for a Microwave Plasma CVD Process Using FRIT 相关领域
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期刊：The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan.C 作者：Natsuki Kawaguchi; Kazuma Nakata; Ryota Ohnishi; Ippei Tanaka 出版日期：2024-02-29 |
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