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Exposure characteristics of ternary copolymerization positive tone electron beam resist containing p-chloro-α-methylstyrene 含对氯-α-甲基苯乙烯的三元共聚正色调电子束抗蚀剂的曝光特性
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期刊: 作者:Kenta Tamaru; Shunsuke Ochiai; Yukiko Kishimura; Hironori Asada; Ryoichi Hoshino; et al 出版日期:2018-06-12 |
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