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标题
Surface reaction mechanisms of SiH4 and Si2H6 for epitaxial silicon growth on Si(100): Effects of hydrogen coverage
网址
DOI
10.1016/j.mssp.2026.111302 doi
其它 期刊:Materials Science in Semiconductor Processing
作者:D. Yoon; Seokmin Oh; Seonwoong Jung; Hyerin Shin; Jungwoo Kim; et al
出版日期:2027-01-01
求助人
Leo 在 2026-11-02 21:43:21 发布自中国台湾,悬赏 10 积分
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