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Beyond 10 μm Depth Ultra-High Speed Etch Process with 84% Lower Carbon Footprint for Memory Channel Hole of 3D NAND Flash over 400 Layers 相关领域
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期刊: 作者:Yoshihide Kihara; Maju Tomura; Wataru Sakamoto; Masanobu Honda; Masayuki Kojima 出版日期:2023-06-11 |
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