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 A Study of the properties of TiO2/SiO2/ZrO2 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering 相关领域
高功率脉冲磁控溅射
材料科学
溅射沉积
薄膜
无线电频率
溅射
光电子学
腔磁控管
计算机科学
纳米技术
电信
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期刊：Han'gug an'gwang haghoeji 作者：Dae Sik Jang; Young Ho Kim; Yee-Rin Jung; Ju Lee; Byung Hak Ha; et al 出版日期：2019-09-30 |
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