Make the impossible possible: use variable-shaped beam mask writers and curvilinear full-chip inverse lithography technology for 193i contacts/vias with mask-wafer co-optimization

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标题	Make the impossible possible: use variable-shaped beam mask writers and curvilinear full-chip inverse lithography technology for 193i contacts/vias with mask-wafer co-optimization
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.23.1.011207
DOI	10.1117/1.jmm.23.1.011207 doi
其它	期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Linyong Pang; Sha Lu; E. Vidal Russell; Yang Lu; Michael Lee; et al 出版日期：2024-02-06
求助人	善良晓蓝在 2026-09-13 14:45:31 发布自上海，悬赏 20 积分
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