| 标题 |
 Hybrid metal-organic clusters resist for next-generation high-NA EUV lithography 相关领域
极紫外光刻
材料科学
抵抗
平版印刷术
光电子学
光学
电子束光刻
X射线光刻
下一代光刻
光刻
计算光刻
|
| 网址 | |
| DOI |
10.1117/12.3091820
doi
|
| 其它 |
期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XLIII 作者：Neha .; Manvendra Chauhan; Kumar Palit Palit; Ashutosh Joshi; Ranbir Singh; et al 出版日期：2026-04-09 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
lixinglei
张欢馨
Kao
cdercder
Nole
潇洒的惋清
嘉心糖
SWEETYXY
yjh123
woshi123
寻雯静
xing_xing
呼呼不爱噜噜
arniu2008
苏丹的论文
行走的荷尔蒙
GingerF
做梦
ddd
我看看怎么个事
皖公网安备34019202002308
