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标题
Synthesis and Properties of Thin Films Formed by Vapor Deposition from Tetramethylsilane in a Radio-Frequency Inductively Coupled Plasma Discharge
网址
https://link.springer.com/content/pdf/10.1134/S1087659618030...
DOI
10.1134/s1087659618030124 doi
其它 期刊：Glass Physics and Chemistry
作者：Yu. M. Rumyantsev; M. N. Chagin; V. R. Shayapov; I. V. Yushina; V. N. Kichai; et al
出版日期：2018-06-29
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45654 在 2026-08-25 15:06:27 发布自四川，悬赏 10 积分
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