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 Fluorine Passivation of Defects and Interfaces in Crystalline Silicon 晶体硅中缺陷和界面的氟钝化
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Hang Cheong Sio; Di Kang; Rong Liu; Josua Stückelberger; Christian Samundsett; et al 出版日期：2021-06-30 |
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