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 Reduction of RuO2 Film to Metallic Ru Film Using Atomic Layer Deposition under Different Oxygen Partial Pressure 不同氧分压下原子层沉积RuO2薄膜还原为金属Ru薄膜
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Tae-Yong Park; Jae Sang Lee; Jingyu Park; Heeyoung Jeon; Hyeongtag Jeon 出版日期：2013-05-01 |
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