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Investigating the Behavior of Thin-Film Formation over Time as a Function of Precursor Concentration and Gas Residence Time in Nitrogen Dielectric Barrier Discharge 相关领域
X射线光电子能谱
傅里叶变换红外光谱
介质阻挡放电
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期刊:Materials 作者:Faegheh Fotouhiardakani; Alex Destrieux; Jacopo Profili; Morgane Laurent; Sethumadhavan Ravichandran; et al 出版日期:2024-02-14 |
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