Radiation Hardness on Dielectric/Ferroelectric Stacked Negative Capacitance Multigate Metal–Oxide–Semiconductor FETs at Sub-3-nm Technology Node: Device to CMOS Inverter Layout - 科研通

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标题	Radiation Hardness on Dielectric/Ferroelectric Stacked Negative Capacitance Multigate Metal–Oxide–Semiconductor FETs at Sub-3-nm Technology Node: Device to CMOS Inverter Layout 亚3纳米技术节点下电介质/铁电堆叠负电容多栅极金属氧化物半导体场效应晶体管的辐射硬度：器件到CMOS反相器布局相关领域材料科学光电子学电容 CMOS芯片辐射硬化铁电性电介质逆变器栅极电介质节点（物理）金属浇口负阻抗变换器栅氧化层氧化物辐射电气工程电子工程晶体管电压工程类光学化学电极物理电压源物理化学结构工程冶金
网址	https://doi.org/10.1109/tdei.2025.3582236
DOI	10.1109/tdei.2025.3582236 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation 作者：Sresta Valasa; Venkata Ramakrishna Kotha; Narendar Vadthiya 出版日期：2025-06-20
求助人	李沐唅在 2025-12-04 14:04:57 发布自贵州，悬赏 10 积分
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