Characteristics of Ti-Capped Co Films Deposited by a Remote Plasma ALD Method Using Cyclopentadienylcobalt Dicarbonyl

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标题	Characteristics of Ti-Capped Co Films Deposited by a Remote Plasma ALD Method Using Cyclopentadienylcobalt Dicarbonyl
网址	http://dx.doi.org/10.1149/1.2769327
DOI	10.1149/1.2769327 doi
其它	期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Keunwoo Lee; Keunjun Kim; Taeyong Park; Hyeongtag Jeon; Youngjin Lee; et al 出版日期：2007-01-01
求助人	韬韬在 2026-08-09 17:16:52 发布自福建，悬赏 10 积分
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