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  Nanoscale Ruthenium-Containing Deposits from Ru(CO)4I2via Simultaneous Focused Electron Beam-Induced Deposition and Etching in Ultrahigh Vacuum: Mask Repair in Extreme Ultraviolet Lithography and Beyond 超高真空中通过同时聚焦电子束诱导沉积和蚀刻从Ru（CO）4I2获得纳米级含钌沉积物：极紫外光刻及以后的掩模修复
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期刊：ACS Applied Nano Materials 作者：Elif Bilgilisoy; Jo-Chi Yu; Christian Preischl; Lisa McElwee‐White; Hans‐Peter Steinrück; et al 出版日期：2022-03-14 |
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