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标题
Antireflective GaN Nanoridge Texturing by Metal-Assisted Chemical Etching via a Thermally Dewetted Pt Catalyst Network for Highly Responsive Ultraviolet Photodiodes
用于高响应紫外光电二极管的热去湿Pt催化剂网络金属辅助化学蚀刻减反射GaN纳米脊织构
相关领域
材料科学 光电子学 防反射涂料 蚀刻（微加工） 响应度 去湿 紫外线 平版印刷术 薄脆饼 干法蚀刻 光电二极管 等离子体刻蚀 纳米技术 光电探测器 薄膜 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1021/acsami.2c22929
AI链接 nih.gov handle.net edu.sgdoi.org
DOI
10.1021/acsami.2c22929 doi
其它 期刊：ACS Applied Materials & Interfaces
作者：Yikai Liao; You Jin Kim; Junyu Lai; Jung‐Hun Seo; Munho Kim
出版日期：2023-03-07
求助人
尊敬的寄松 在 2025-12-04 01:46:10 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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