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标题
Effect of plasma sheath with secondary electron emission on the Ti N chemical bond formation in titanium dental implantation
二次电子发射等离子体鞘对钛牙种植体TiN化学键形成的影响
相关领域
等离子体 材料科学 电子 表面改性 二次排放 粘结强度 化学键 离子 德拜鞘层 氮化钛 钛合金 等离子体浸没离子注入 原子物理学 离子注入 化学 复合材料 冶金 图层(电子) 物理化学 合金 物理 胶粘剂 有机化学 量子力学 氮化物
网址
DOI
10.1016/j.matpr.2022.02.082 doi
其它 期刊:Materials Today Proceedings
作者:Utpal Deka; Bivek Pradhan
出版日期:2022-01-01
求助人
时尚问安 在 2025-06-11 08:23:18 发布,悬赏 10 积分
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