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标题
Improvement in current drivability and stability in nanoscale vertical channel thin-film transistors via band-gap engineering in In–Ga–Zn–O bilayer channel configuration
在In-Ga-Zn-O双层沟道结构中通过带隙工程改善纳米级垂直沟道薄膜晶体管的电流驱动能力和稳定性
相关领域
材料科学 双层 异质结 光电子学 晶体管 钝化 阈值电压 频道（广播） 纳米技术 电压 图层（电子） 电气工程 膜 遗传学 生物 工程类
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6528/acb3cc
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1088/1361-6528/acb3cc doi
其它 期刊：Nanotechnology
作者：Hyun-Min Ahn; Young-Ha Kwon; Nak-Jin Seong; Kyu-Jeong Choi; Chi‐Sun Hwang; et al
出版日期：2023-02-03
求助人
不安的硬币 在 2024-04-25 09:34:03 发布自广东，悬赏 10 积分
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