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 Increasing robustness of EpiWafer transfer process leading to carrier lifetimes of 1.6 ms using large scale production feasible substrate wafers 使用大规模生产可行的衬底晶片，提高外延晶片转移工艺的稳健性，导致1.6 ms的载流子寿命
相关领域
稳健性（进化）
薄脆饼
材料科学
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晶圆规模集成
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期刊：AIP conference proceedings 作者：Yves Patrick Botchak Mouafi; Gabriel Micard; Juliane Mürter; Nena Birkle; R. Sorgenfrei; et al 出版日期：2023-01-01 |
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