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 Comprehensive Analysis of Duty-Cycle Induced Degradations in HfxZr1-xO2-Based Ferroelectric Capacitors: Behavior, Modeling, and Optimization HfxZr1-xO2基铁电电容器占空比诱导退化的综合分析：行为、建模和优化
相关领域
电容器
铁电性
材料科学
占空比
光电子学
分析化学（期刊）
电压
电气工程
电介质
化学
工程类
色谱法
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期刊：2024 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits) 作者：Guan Feng; Yu Li; Hao Jiang; Xiaodong Wang; Yize Sun; et al 出版日期：2024-08-27 |
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