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 Phosphorus precursors reactivity versus hydrogenated Ge surface: towards a reliable self-limited monolayer doping 磷前体反应性与氢化锗表面的关系：走向可靠的自限性单层掺杂
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化学吸附
物理吸附
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化学
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光电子学
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期刊：Applied Surface Science 作者：Francesco Sgarbossa; Alberto Levarato; S. Carturan; Gian Andrea Rizzi; Cristina Tubaro; et al 出版日期：2020-11-20 |
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