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 Thermal activation mechanism of sulfur impurities in sulfur-hyperdoped silicon films 硫超掺杂硅薄膜中硫杂质的热活化机理
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Baowei Cao; Huihuang Yang; Y.J. Chen; Yen-Ju Lin; Yajie Yang; et al 出版日期：2022-09-18 |
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Codong
在
2025-08-18 14:08:45 发布，悬赏 10 积分
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