发布文献求助
求助中
  • 文献求助详情
标题
New coater/developer technologies for CD control and defectivity reduction towards 5 nm and smaller nodes
相关领域
极紫外光刻 还原（数学） 薄脆饼 平版印刷术 节点（物理） 过程（计算） 多重图案 进程窗口 光刻 计算机科学 极端紫外线 浸没式光刻 过程控制 抵抗 材料科学 先进过程控制 纳米技术 工程类 光电子学 物理 光学 激光器 几何学 数学 结构工程 图层（电子） 操作系统
网址
https://doi.org/10.1117/12.2536470
DOI
10.1117/12.2536470 doi
其它 期刊：
作者：Arnaud Dauendorffer; Yuya Kamei; Shinichiro Kawakami; Makoto Muramatsu; Kathleen Nafus; et al
出版日期：2019-10-07
求助人
慕青 在 2025-10-27 11:09:34 发布自内蒙古，悬赏 20 积分
下载 暂无链接，等待应助者上传
 
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
上个求助
下个求助
提交工单
相关文献
  1. Impact of bandwidth on contrast sensitive structures for low k1 lithography
  2. Comparison study for 3x-nm contact hole CD uniformity between EUV lithography and ArF immersion doub...
  3. Patterning challenges of EUV lithography for 1X-nm node DRAM and beyond
  4. Extension of 193 nm dry lithography to 45-nm half-pitch node: double exposure and double processing ...
  5. Lithographic challenges and their solutions for critical layers in sub-14nm node logic devices
  6. Comparison between e-beam direct write and immersion lithography for 20nm node
  7. Patterning performance of hyper NA immersion lithography for 32nm node logic process
  8. Novel Approaches to Extend 193nm Immersion Technology to Advanced Device Nodes
  9. The challenge of multi-patterning lithography for contact layer in 7nm and beyond (Conference Presen...
  10. Challenges and solutions of few-line patterns with freeform illumination in immersion lithography
　...点击展开更多...　
求助 / 应助时间线

  • 现在，等待您上传文献

  • 8小时前

    科研通AI2.0 科研通AI2.0 机器人 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载

    11:09:38 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载
    11:09:35 科研通AI机器人（新加坡）收到请求，开始寻找文献
    11:09:34 已向机器人发送请求

  • 8小时前

    慕青 慕青 Lv12 求助人 发起了本次求助

更新
PDF的下载单位、IP信息已删除 (2025-6-4)
科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。 对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。
实时播报
hull完成签到，获得积分10
刚刚
1秒前
甜崽发布了新的文献求助10
1秒前
小蘑菇的应助被楚慈采纳，获得10
1秒前
孤独的钢铁侠完成签到，获得积分10
2秒前
情怀的应助被安静的觅松采纳，获得10
2秒前
在水一方的应助被科研混子采纳，获得10
3秒前
量子星尘发布了新的文献求助10
3秒前
3秒前
王月发布了新的文献求助20
4秒前
4秒前
4秒前
mm完成签到 ，获得积分10
4秒前
4秒前
酷波er的应助被mdd采纳，获得10
5秒前
张振天发布了新的文献求助10
5秒前
顾矜的应助被科研通管家采纳，获得10
5秒前
唐泽雪穗的应助被科研通管家采纳，获得10
5秒前
领导范儿的应助被科研通管家采纳，获得10
6秒前
我是老大的应助被科研通管家采纳，获得10
6秒前
思源的应助被科研通管家采纳，获得10
6秒前
大个的应助被科研通管家采纳，获得10
6秒前
上官若男的应助被科研通管家采纳，获得10
6秒前
烟花的应助被科研通管家采纳，获得10
6秒前
6秒前
科研通AI6的应助被科研通管家采纳，获得10
6秒前
风清扬的应助被科研通管家采纳，获得100
6秒前
yuyu完成签到，获得积分10
6秒前
FashionBoy的应助被科研通管家采纳，获得10
7秒前
唐泽雪穗的应助被科研通管家采纳，获得10
7秒前
7秒前
7秒前
damonvincent发布了新的文献求助10
7秒前
7秒前
十六发布了新的文献求助10
8秒前
科研通AI5的应助被闪电小子采纳，获得10
9秒前
Zhang发布了新的文献求助10
9秒前
9秒前
10秒前
苹果清涟发布了新的文献求助10
10秒前
高分求助中
(应助此贴封号)【重要！！请各用户(尤其是新用户)详细阅读】【科研通的精品贴汇总】 10000
Einführung in die Rechtsphilosophie und Rechtstheorie der Gegenwart 1500
Binary Alloy Phase Diagrams, 2nd Edition 1000
青少年心理适应性量表(APAS)使用手册 700
Air Transportation A Global Management Perspective 9th Edition 700
Socialization In The Context Of The Family: Parent-Child Interaction 600
DESIGN GUIDE FOR SHIPBOARD AIRBORNE NOISE CONTROL 600
热门求助领域 （近24小时）
化学 医学 生物 材料科学 工程类 有机化学 内科学 生物化学 物理 计算机科学 纳米技术 遗传学 基因 复合材料 化学工程 物理化学 病理 催化作用 免疫学 量子力学
热门帖子
关注 科研通微信公众号，转发送积分 4991412
求助须知：如何正确求助？哪些是违规求助？ 4239905
关于积分的说明 13208671
捐赠科研通 4034805
什么是DOI，文献DOI怎么找？ 2207529
邀请新用户注册赠送积分活动 1218522
关于科研通互助平台的介绍 1136959
Copyright © 2020-2025 AbleSci.COM, 科研通, All Right Reserved
科研通是非营利科研互助平台，不忘初心，为科研助力
本站互助的所有文件仅供个人学习研究用，禁止任何人把求助的所得文献进行盈利或传播
版权声明 关于本站 捐赠本站 提交工单 客服中心
皖ICP备2024041134号-1 皖公网安备34019202002308
科研通【文献互助QQ群】：如果您有特殊求助，或发布求助超过24小时未得到应助，可加群求助，群号：941272744【点击一键加群】
科研通【志愿服务QQ群】：如果您热爱文献互助，有热心愿意为更多人服务，请加入小伙伴群，点击申请加入
关注微信服务号
科研通