Low-temperature, high-throughput spatial atomic layer deposition of NiOx nanocrystalline thin films from [Ni(ipki)2]

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标题	Low-temperature, high-throughput spatial atomic layer deposition of NiOx nanocrystalline thin films from [Ni(ipki)2]
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S266652392...
DOI	10.1016/j.apsadv.2025.100836 doi
其它	期刊：Applied Surface Science Advances 作者：Samuel Porcar; Marcel Schmickler; Hayri Okcu; Jorit Obenlüneschloß; Stefano d’Ercole; et al 出版日期：2025-09-03
求助人	沉静的梦秋在 2026-05-10 15:28:09 发布自福建，悬赏 10 积分
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Society for Industrial and Applied Mathematics (SIAM)

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