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 Inductively coupled plasma reactive ion etching of bulk ZnO single crystal and molecular beam epitaxy grown ZnO films 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：M. Mehta; M. Ruth; Karoline A. Piegdon; David Krix; Hermann Nienhaus; et al 出版日期：2009-08-25 |
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