| 标题 |
Comparison of Resistive Switching between Tantalum Oxides Deposited by Atomic Layer Deposition and E-Beam Physical Vapor Evaporation |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:ECS Transactions 作者:Yuhong Kang; Tanmay Potnis; Sarah El-Helw; Tong Liu; Marius K. Orlowski 出版日期:2013 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)