| 标题 |
 Research on high-quality and low-damage liquid film shearing polishing of 4H-SiC and its surface/subsurface damage evolution 相关领域
抛光
材料科学
剪切（物理）
磨料
复合材料
表面粗糙度
碳化硅
正电子湮没谱学
钝化
透射电子显微镜
制作
各向同性腐蚀
扫描电子显微镜
半导体
冶金
碳化物
化学机械平面化
硅
表层
研磨
半导体器件制造
表面光洁度
纳米-
空位缺陷
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| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：Hongyu Chen; Hong-Bing Wan; Yujie Yang; Binghai Lyu; te Zhu; et al 出版日期：2025-11-09 |
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