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  Patterning at 6.5 nm wavelength using interference lithography 使用干涉光刻在6.5 nm波长下图案化
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Nassir Mojarad; Michaela Vockenhuber; Li Wang; Bernd Terhalle; Yasin Ekinci 出版日期：2013-04-01 |
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