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 Enhancement of Device Uniformity in IWO TFTs via RF Magnetron Co-Sputtering of In2O3 and WO3 Targets 射频磁控共溅射In2O3和WO3靶增强IWO薄膜晶体管的器件均匀性
相关领域
溅射
溅射沉积
光电子学
材料科学
无线电频率
电气工程
纳米技术
薄膜
工程类
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