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标题
Enhancement of Device Uniformity in IWO TFTs via RF Magnetron Co-Sputtering of In2O3 and WO3 Targets
射频磁控共溅射In2O3和WO3靶增强IWO薄膜晶体管的器件均匀性
相关领域
溅射 溅射沉积 光电子学 材料科学 无线电频率 电气工程 纳米技术 薄膜 工程类
网址
http://dx.doi.org/10.1109/led.2024.3477443
DOI
10.1109/led.2024.3477443 doi
求助人
达鸟啊 在 2025-12-27 18:05:10 发布自广东，悬赏 10 积分
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