Thermal atomic layer etching of SnO2 thin films using a chlorination and ligand-addition mechanism

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标题	Thermal atomic layer etching of SnO2 thin films using a chlorination and ligand-addition mechanism
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2026.168629
DOI	10.1016/j.apsusc.2026.168629 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Jeongbin Lee; Woo-Hee Kim 出版日期：2027-02-01
求助人	ADChem_JH 在 2026-10-23 15:29:42 发布自安徽，悬赏 10 积分
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