| 标题 |
Statistical simulation of photoresists at EUV and ArF |
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10.1117/12.813551
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| 其它 |
期刊:SPIE Proceedings 作者:John J. Biafore; Mark D. Smith; Chris A. Mack; James W. Thackeray; Roel Gronheid; et al 出版日期:2009-03-13 |
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(2025-6-4)